Le vide est un élément très important pour l'élaboration des couches minces par évaporation thermique ou à canon d'électron.
En effet, l'application du vide permet d'éliminer toutes les particules indésirables et participe, ainsi, à l'homogénéité et la pureté des couches minces élaborée.
Le vide est appliqué en deux, voir trois étapes. Tout d'abord, une pompe primaire est lancée pour atteindre un vide primaire de l'ordre de 5*10^(-1) mbar. Ensuite une deuxième pompe se déclenche pour assurer le vide secondaire et même le vide poussé. Soit un ordre de grandeur de 10^(-5) et 10^(-7) mbar. Au cours du dépôt, la pression peut augmenter à cause de l'échauffement de l'enceinte de l'évaporateur. Bien évidemment la Pression et proportionnelle à la température donc l'augmentation de température engendre une augmentation de la pression suivant l'expression :
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